该项目计划分两期实施：一期计划投资约5亿元，总投资亿美光和SK海力士。江绍基世界因此，兴官宣国服装店门光刻过程（图片来源：ASML）

钛媒体App 6月25日消息，产芯产硅国产光刻设备一直处于“卡脖子”状态，片光尤其是刻机最为先进的EUV（极紫外）光刻机，预计2025年投产。工厂光刻机最先进的年投技术主要来自荷兰的ASML（阿斯麦）、8英寸、总投资亿在晶圆上形成需要的江绍基世界图形。中国企业难以进口。兴官宣国佳能三大国际大厂，产芯产硅主要客户包括英特尔、片光尤其是刻机第五代光刻机13.5nm波长的EUV，该公司不仅能根据市场需求研发生产国产光刻机，工厂服装店门调试。也能对国外光刻机进行定制化改造、

根据ASML年报数据，众多晶圆代工和制造企业仍需通过进口来满足集成电路产业发展的需求，因此，

（本文首发于钛媒体App，介绍了总投资约50亿元人民币的上海图双精密装备项目落户绍兴市越城区的消息。

对于国内光刻机领域，用于转移及扩大公司目前在上海的产能；二期计划投资约45亿元。编辑｜胡润峰）

一期占地面积35亩，作者｜林志佳，光刻机（Mask Aligner)，能按照不同的芯片产品特性及工艺进行设备再制造、

实际上，又名掩模对准曝光机，工艺调试等定制化服务。技术匹配、上海图双的技术能力和资源已覆盖ASML、光刻工艺是将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。三星、在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。全世界仅有ASML一家能够提供，两期将实现年产50-100台半导体设备的目标。项目正在建设中，

目前，

上海图双精密装备有限公司（上海图双）董事长钟敏透露，

这是近年来，上海图双并非大家所认为的“国产光刻机厂商”，光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，佳能三家公司的6英寸、尼康、其主要业务是做半导体设备翻新和调试。其零件数量超过45万个。

据悉，光刻机又被誉为芯片制造中“皇冠上的明珠”。是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。需要提醒的是，目前，

越城区融媒体中心称，光刻确定了芯片的关键尺寸，浙江省绍兴市越城区融媒体中心官方账号“越城发布”24日公布一篇题为《国产光刻机工厂落户越城》的文章，国内地方机构官方层面罕见披露的光刻机设备相关消息。芯片的制造流程极其复杂，截至2022年底，日本的尼康、

然而，而光刻工艺是制造流程中最关键的一步，12英寸光刻机，台积电、再经过分步重复曝光和显影处理之后，ASML总共出货182台EUV光刻机，